该仪器用于聚对二甲苯C型薄膜的沉积：

1.蒸发室：不锈钢筒状蒸发器，蒸发室容量大于100g，温度设定上限180℃；

2.裂解室：不锈钢耐高温裂解管，温度设定上限720℃；

3.沉积室：不锈钢材料，电抛光处理，带玻璃观察窗，室内样品台可旋转并最大可满足8寸单基片和多基片摆放或悬挂，室内有导流管或导流板；

4.精确的沉积压力控制或通过温度控制达到稳定的压力曲线；

5.冷阱：独立机械制冷机制冷，制冷温度低于-90℃；

6.控制系统：控制系统采用PLC或计算机闭环控制，沉积参数及工艺曲线可显示，数据可存储及调阅；

系统极限真空：优于5×10^-3Torr；