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曝光光刻机

时间:2025-04-22点击数:

1.曝光对准类型:半自动单面对准曝光

2.曝光面积:152×152mm2

3.曝光照度不均匀性:+/-10%

4.曝光强度:≥30mW/cm2可调

5.紫外光束角:≤2˚

6.紫外光中心波长:365nm

7LED光源寿命:≥1万小时

8.曝光分辨率:≤1μm(正胶);

9.一次性最大曝光深度:500μm

10.单次曝光可实现深宽比最大:10:1;

11.曝光模式:可选择一次曝光或套刻曝光;

12.对准精度:≤±1μm

13.分离量:01000μm可调

14.曝光方式:硬接触、软接触、接近式曝光

15.找平方式:无需找平