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曝光光刻机

时间:2025-04-22点击数:

【厂商(型号)】KLOEUV-KUB3

【关键参数】中心波长365 nm;强度≥30 mW/cm²(可调);曝光面积152×152 mm²;曝光分辨率≤1µm;最大曝光深度 500 µm,对准精度:≤±1 µm

【应用领域】可用于微流控芯片制备,将芯片设计图案精确转移到基片上,形成所需的微通道等微纳结构。

【收费标准】平台内200元/小时;校内500元/小时;校外800元/小时。

【放置地点】创新港20号楼5034

【设备管理员】张老师

【联系电话】15349187289